سرفيس پروسيسنگ جو طريقو ٽائيٽينيم-ڊوپڊ سيفائر ڪرسٽل ليزر راڊز

ٽائيٽينيم گيمسٽون ڪرسٽل Ti:Al2O3 (ڊوپنگ ڪنسنٽريشن 0.35 wt% Ti2O3)، جن جا ڪرسٽل خال موجوده ايجاد جي ٽائيٽينيم گيمسٽون ڪرسٽل ليزر راڊ جي مٿاڇري جي پروسيسنگ طريقي جي پروسيسنگ فلو ڊاگرام مطابق آهن، تصوير 1 ۾ ڏيکاريل آهن. مخصوص تياري جا مرحلا مٿاڇري جي پروسيسنگ طريقي جي ٽائيٽينيم گيمسٽون ڪرسٽل ليزر راڊ جي موجوده ايجادون هن ريت آهن:

<1> اورينٽيشن ڪٽڻ: ٽائيٽينيم گيمسٽون ڪرسٽل کي پھريون رخ ڪيو وڃي ٿو، ۽ پوءِ مڪمل ٿيل ليزر راڊ جي ماپ مطابق اٽڪل 0.4 کان 0.6 ملي ميٽر جي پروسيسنگ الاؤنس کي ڇڏي ٽيٽراگونل ڪالمن جي شڪل واري خالي ۾ ڪٽيو وڃي ٿو.

<2>ڪالمن جي ٿلهي ۽ سٺي پيسڻ: ڪالمن جي خالي حصي کي 120~180# سلين ڪاربائيڊ يا بوران ڪاربائيڊ اباسائيوز سان گڏ ٽيٽراگونل يا سلنڊرائيل ڪراس سيڪشن ۾ گرائونڊ ڪيو ويو آهي، جنهن ۾ ٿلهي پيسڻ واري مشين تي ٽيپر ۽ ٻاهر جي گولائي جي غلطي سان. ±0.01mm

<3> پڇاڙيءَ جو منهن پروسيسنگ: ٽائيٽينيم گيمسٽون ليزر بار ٻه پڇاڙيءَ واري منهن جي پروسيسنگ ڪاميابي سان W40، W20، W10 بوران ڪاربائڊ پيسڻ واري آخري منهن سان اسٽيل ڊسڪ تي. پيسڻ جي عمل ۾، ڌيان ڏيڻ گهرجي ته آخري منهن جي عمودي کي ماپڻ لاء.

<4> ڪيميائي-مڪينيڪل پالش ڪرڻ: ڪيميائي-مڪينيڪل پالشنگ پولشنگ پيڊ تي ڪرسٽل کي پالش ڪرڻ جو عمل آهي جيڪو اڳ ۾ ٺهيل ڪيميڪل ايچنگ حل جي قطرن سان. پالش ڪرڻ واري ڪمپيس ۽ پولشنگ پيڊ کي لاڳاپي واري حرڪت ۽ ڇڪڻ لاءِ، جڏهن ته ريسرچ slurry ۾ ڪيميائي ايچنگ ايجنٽ (جنهن کي پالش ڪرڻ وارو مائع سڏيو ويندو آهي) جي مدد سان پالش ڪرڻ کي مڪمل ڪيو وڃي.

<5> ايسڊ ايچنگ: ٽائيٽينيم جي پٿرن کي پالش ڪرڻ کان پوءِ، جيئن مٿي بيان ڪيو ويو آهي، H2SO4:H3PO4 = 3:1 (v/v) جي ملاوٽ ۾، 100-400 °C جي گرمي پد تي، ۽ تيزاب سان ٺهيل 5 تائين -30 منٽ. مقصد ليزر بار جي مٿاڇري تي پالش ڪرڻ واري عمل کي ختم ڪرڻ آهي جيڪو ميڪيڪل ذيلي سطح جي نقصان جي ڪري پيدا ڪيو ويو آهي، ۽ مختلف قسم جي داغ کي هٽائڻ، صاف سطح جي هموار ۽ فليٽ جي ايٽمي سطح حاصل ڪرڻ لاء. .

<6> مٿاڇري جي گرمي جو علاج: اڳئين عمل جي ڪري پيدا ٿيل مٿاڇري جي دٻاءُ ۽ ڇڪتاڻ کي وڌيڪ ختم ڪرڻ ۽ ايٽمي سطح تي هڪ چٽي مٿاڇري حاصل ڪرڻ لاءِ، ٽائيٽينيم جيمسٽون جي راڊ کي تيزاب جي ڇنڊڇاڻ کان پوءِ 5 منٽن لاءِ ڊيونائيز ٿيل پاڻي سان ڌوئي ڇڏيو ويو، ۽ ٽائيٽينيم گيمسٽون راڊ 1360 ± 20 ° C جي ماحول ۾ رکيل هو. هائيڊروجن ماحول ۾ 1 کان 3 ڪلاڪ جي درجه حرارت، ۽ مٿاڇري جي گرمي علاج جي تابع.