Silicon ڊاء آڪسائيڊ ويفر SiO2 ويفر ٿلهو پالش، پرائم ۽ ٽيسٽ گريڊ
ويفر باڪس جو تعارف
| پيداوار | حرارتي آڪسائيڊ (Si+SiO2) ويفرز |
| پيداوار جو طريقو | ايل پي سي وي ڊي |
| مٿاڇري پالش ڪرڻ | ايس ايس پي/ ڊي ايس پي |
| قطر | 2 انچ / 3 انچ / 4 انچ / 5 انچ / 6 انچ |
| قسم | P قسم / N قسم |
| آڪسائيڊ پرت جي ٿلهي | 100nm ~ 1000nm |
| اورينٽيشن | <100> <111> |
| برقي مزاحمت | 0.001-25000 (Ω•cm) |
| درخواست | synchrotron تابڪاري نموني ڪيريئر لاءِ استعمال ڪيو ويو، PVD/CVD ڪوٽنگ بطور سبسٽرٽ، magnetron sputtering واڌ جو نمونو، XRD، SEM،ايٽمي قوت، انفراريڊ اسپيڪٽرو اسڪوپي، فلوروسينس اسپيڪٽرو اسڪوپي ۽ ٻيا تجزياتي ٽيسٽ سبسٽراٽس، ماليڪيولر بيم ايپيٽيڪسيل گروٿ سبسٽراٽس، ڪرسٽل لائين سيمي ڪنڊڪٽرز جو ايڪس ري تجزيو |
سلکان ڊاءِ آڪسائيڊ فلمون سلکان ڊاءِ آڪسائيڊ فلمون آهن جيڪي سلڪون ڊاءِ آڪسائيڊ فلمون آهن جيڪي آڪسيجن يا پاڻيءَ جي بخار جي ذريعي تيز گرمي پد تي (800°C~1150°C) هوا جي دٻاءُ واري فرنس ٽيوب جي سامان سان حرارتي آڪسائيڊشن جي عمل سان استعمال ڪنديون آهن. پروسيس جي ٿلهي 50 نانو ميٽرن کان 2 مائڪرون تائين آهي، پروسيس جي گرمي پد 1100 درجا سينٽيگريڊ تائين آهي، ترقي جو طريقو "گلي آڪسيجن" ۽ "خشڪ آڪسيجن" ٻن قسمن ۾ ورهايل آهي. حرارتي آڪسائيڊ هڪ ”اُڀري“ آڪسائيڊ پرت آهي، جنهن ۾ اعليٰ هڪجهڙائي، بهتر کثافت ۽ سي وي ڊي جمع ٿيل آڪسائيڊ پرت جي ڀيٽ ۾ اعليٰ ڊائيليڪٽرڪ طاقت آهي، جنهن جي نتيجي ۾ اعليٰ معيار آهي.
خشڪ آڪسيجن آڪسائيڊشن
سلڪون آڪسيجن سان رد عمل ڪري ٿو ۽ آڪسائيڊ پرت مسلسل سبسٽرٽ پرت ڏانهن وڌي رهي آهي. خشڪ آڪسائيڊشن کي 850 کان 1200 ° C جي گرمي پد تي انجام ڏيڻ جي ضرورت آهي، گهٽ ترقي جي شرح سان، ۽ استعمال ڪري سگهجي ٿو MOS موصل دروازي جي واڌ لاءِ. خشڪ آڪسائيڊشن کي ترجيح ڏني ويندي آهي گلي آڪسائيڊ تي جڏهن هڪ اعلي معيار، الٽرا پتلي سلکان آڪسائيڊ پرت جي ضرورت هوندي آهي. سڪل oxidation گنجائش: 15nm ~ 300nm.
2. گلي آڪسائيڊشن
اهو طريقو پاڻي جي بخارن کي استعمال ڪري ٿو آڪسائيڊ پرت ٺاهڻ لاءِ فرنس ٽيوب ۾ داخل ٿيڻ سان تيز گرمي پد جي حالتن هيٺ. گندي آڪسيجن آڪسائيڊشن جي کثافت خشڪ آڪسيجن آڪسائيڊشن جي ڀيٽ ۾ ٿورڙي خراب آهي، پر خشڪ آڪسيجن آڪسائيڊشن جي مقابلي ۾ ان جو فائدو اهو آهي ته ان جي ترقي جي شرح وڌيڪ آهي، جيڪا 500nm فلمن جي ترقي لاء مناسب آهي. گندي آڪسائيڊشن جي گنجائش: 500nm ~ 2µm.
AEMD جي فضائي دٻاء آڪسائيڊشن فرنس ٽيوب هڪ چيڪ افقي فرنس ٽيوب آهي، جيڪا اعلي عمل جي استحڪام، سٺي فلم يونيفارم ۽ اعلي ذيلي ڪنٽرول جي خاصيت آهي. سلڪون آڪسائيڊ فرنس ٽيوب 50 ويفرز في ٽيوب تائين پروسيس ڪري سگھي ٿي، بهترين اندرا ۽ انٽر-ويفر يونيفارمٽي سان.
تفصيلي خاڪو
