ني سبسٽريٽ/ويفر سنگل ڪرسٽل ڪيوبڪ structure a=3.25A کثافت 8.91

ني سبسٽريٽ/ويفر سنگل ڪرسٽل ڪيوبڪ اسٽرڪچر a=3.25A کثافت 8.91 خاص تصوير

مختصر وضاحت:

نڪل (ني) سبسٽريٽ، خاص طور تي نڪل ويفرز جي صورت ۾، انهن جي ورسٽائل ملڪيتن جي ڪري مادي سائنس ۽ اليڪٽرانڪس ريسرچ ۾ وڏي پيماني تي استعمال ٿيندا آهن. 5x5x0.5 ملي ميٽر، 10x10x1 ملي ميٽر، ۽ 20x20x0.5 ملي ميٽر جي طول و عرض ۾ موجود، اهي سبسٽريٽ اهم ڪرسٽلوگرافڪ جهازن جهڙوڪ <100>، <110>، ۽ <111> تي ٻڌل آهن. اهي رخ پتلي فلم جي جمع، ايپيٽيڪسيل واڌ، ۽ مٿاڇري جي مطالعي تي اثر انداز ٿيڻ ۾ اهم آهن، ڇاڪاڻ ته اهي مختلف مواد سان صحيح جالي جي ميلاپ جي اجازت ڏين ٿا. نڪل سبسٽريٽ عام طور تي ڪيٽيليسس، مقناطيسي مواد، ۽ سپر ڪنڊڪٽرز جي ايپليڪيشنن ۾ استعمال ڪيا ويندا آهن ڇاڪاڻ ته انهن جي بهترين حرارتي ۽ برقي چالکائي جي ڪري. انهن جي اعلي ميڪيڪل طاقت ۽ سنکنرن جي مزاحمت پڻ انهن کي جديد ڪوٽنگ ٽيڪنڪ، سينسر ڊولپمينٽ، ۽ نانو اليڪٽرانڪس لاءِ مناسب بڻائي ٿي. ڪرسٽلوگرافڪ درستگي، طول و عرض لچڪ، ۽ اعلي معيار جي نڪل مواد جو ميلاپ يقيني بڻائي ٿو ته اهي سبسٽريٽ تجرباتي ۽ صنعتي ايپليڪيشنن ۾ بهترين ڪارڪردگي فراهم ڪن ٿا. پتلي فلمن ۽ ڪوٽنگن جي وسيع رينج کي سپورٽ ڪرڻ جي صلاحيت سان، ني سبسٽريٽ مختلف هاءِ ٽيڪ شعبن ۾ نئين مواد ۽ ڊوائيسز جي ترقي لاءِ لازمي آهن.

اسان کي اي ميل موڪليو

پيداوار جي تفصيل

پراڊڪٽ ٽيگ

وضاحت

ني سبسٽريٽس جا ڪرسٽلوگرافڪ رخ، جهڙوڪ <100>، <110>، ۽ <111>، مواد جي مٿاڇري ۽ رابطي جي خاصيتن کي طئي ڪرڻ ۾ اهم ڪردار ادا ڪن ٿا. اهي رخ مختلف پتلي فلم مواد سان جالي جي ميلاپ جون صلاحيتون مهيا ڪن ٿا، ايپيٽيڪسيل پرتن جي صحيح واڌ جي حمايت ڪن ٿا. ان کان علاوه، نڪل جي سنکنرن جي مزاحمت ان کي سخت ماحول ۾ پائيدار بڻائي ٿي، جيڪا ايرو اسپيس، سامونڊي ۽ ڪيميائي پروسيسنگ ۾ ايپليڪيشنن لاءِ فائديمند آهي. ان جي ميڪيڪل طاقت وڌيڪ يقيني بڻائي ٿي ته ني سبسٽريٽس جسماني پروسيسنگ ۽ تجربن جي سختين کي بغير خراب ڪرڻ جي برداشت ڪري سگهن ٿا، پتلي فلم جمع ڪرڻ ۽ ڪوٽنگ ٽيڪنالاجي لاءِ هڪ مستحڪم بنياد فراهم ڪن ٿا. حرارتي، برقي، ۽ ميڪيڪل خاصيتن جو هي ميلاپ ني سبسٽريٽس کي نانو ٽيڪنالاجي، مٿاڇري سائنس، ۽ اليڪٽرانڪس ۾ ترقي يافته تحقيق لاءِ ضروري بڻائي ٿو.
نڪل جي خاصيتن ۾ اعليٰ سختي ۽ طاقت شامل ٿي سگھي ٿي، جيڪا 48-55 HRC تائين سخت ٿي سگھي ٿي. سٺي سنکنرن جي مزاحمت، خاص طور تي تيزاب ۽ الڪلي ۽ ٻين ڪيميائي ميڊيا جي خلاف، بهترين سنکنرن جي مزاحمت رکي ٿي. سٺي برقي چالکائي ۽ مقناطيسيت، برقي مقناطيسي مصر جي تياري جي مکيه حصن مان هڪ آهي.
نڪل ڪيترن ئي شعبن ۾ استعمال ٿي سگهي ٿو، جهڙوڪ اليڪٽرانڪ حصن لاءِ هڪ ڪنڊڪٽو مواد ۽ رابطي واري مواد جي طور تي. بيٽريون، موٽر، ٽرانسفارمر ۽ ٻيا برقي مقناطيسي سامان ٺاهڻ لاءِ استعمال ٿيندو آهي. اليڪٽرانڪ ڪنيڪٽرن، ٽرانسميشن لائينن ۽ ٻين برقي نظامن ۾ استعمال ٿيندو آهي. ڪيميائي سامان، ڪنٽينرز، پائپ لائنن وغيره لاءِ هڪ ساختي مواد جي طور تي. اعليٰ سنکنرن مزاحمت جي گهرجن سان ڪيميائي رد عمل جي سامان ٺاهڻ لاءِ استعمال ٿيندو آهي. اهو دواسازي، پيٽروڪيميڪل ۽ ٻين شعبن ۾ استعمال ٿيندو آهي جتي مواد جي سنکنرن مزاحمت سختي سان گهربل هوندي آهي.

نڪل (ني) سبسٽريٽ، پنهنجي ورسٽائل فزيڪل، ڪيميڪل، ۽ ڪرسٽالگرافڪ خاصيتن جي ڪري، مختلف سائنسي ۽ صنعتي شعبن ۾ ڪيترائي ايپليڪيشن ڳوليندا آهن. هيٺ ڏنل ني سبسٽريٽ جا ڪجهه اهم ايپليڪيشن آهن: نڪل سبسٽريٽ وڏي پيماني تي پتلي فلمن ۽ ايپيٽيڪسيل پرتن جي جمع ڪرڻ ۾ استعمال ٿيندا آهن. ني سبسٽريٽ جا مخصوص ڪرسٽالگرافڪ رخ، جهڙوڪ <100>، <110>، ۽ <111>، مختلف مواد سان جالي جي ميلاپ فراهم ڪن ٿا، پتلي فلمن جي صحيح ۽ ڪنٽرول ٿيل واڌ جي اجازت ڏين ٿا. ني سبسٽريٽ اڪثر ڪري مقناطيسي اسٽوريج ڊوائيسز، سينسرز، ۽ اسپنٽرونڪ ڊوائيسز جي ترقي ۾ استعمال ٿيندا آهن، جتي اليڪٽران اسپن کي ڪنٽرول ڪرڻ ڊوائيس جي ڪارڪردگي کي بهتر بڻائڻ جي ڪنجي آهي. نڪل هائيڊروجن ارتقائي رد عمل (HER) ۽ آڪسيجن ارتقائي رد عمل (OER) لاءِ هڪ بهترين ڪيٽيلسٽ آهي، جيڪي پاڻي جي ورهاست ۽ ايندھن جي سيل ٽيڪنالاجي ۾ اهم آهن. ني سبسٽريٽ اڪثر ڪري انهن ايپليڪيشنن ۾ ڪيٽيليٽڪ ڪوٽنگن لاءِ سپورٽ مواد طور استعمال ٿيندا آهن، موثر توانائي جي تبديلي جي عملن ۾ حصو وٺندا آهن.
اسان گراهڪن جي مخصوص گهرجن مطابق ني سنگل ڪرسٽل سبسٽريٽ جي مختلف وضاحتن، ٿولهه ۽ شڪلن کي ترتيب ڏئي سگھون ٿا.

تفصيلي ڊاگرام